行星式冷冻球磨仪通过将液氮超低温冷却技术与行星式高能球磨原理结合，实现了对复杂样品的“低温脆化-高频冲击-精准研磨"一体化处理，成为纳米材料制备、生物样本前处理、机械合金化等领域的核心装备。

　　一、技术原理：低温与高频冲击的协同作用

　　1. 液氮冷冻脆化技术

　　液氮（-196℃）通过直接喷射或循环冷却系统，将研磨罐内样品温度迅速降至脆化点以下（通常为-100℃至-196℃）。低温使样品分子结构收缩，硬度增加而韧性降低，例如：

　　橡胶：常温下难以研磨，液氮冷冻后可在30秒内被粉碎至200微米以下；

　　骨骼：冷冻后研磨效率提升3倍，DNA提取成功率达98%；

　　塑料：低温下避免挥发损失，重金属残留检测误差降低至5%以内。

　　2. 行星式高能球磨机制

　　研磨罐在公转（绕设备中心轴高速旋转）与自转（绕自身轴线反向旋转）的复合运动下，产生的离心力。研磨球在离心力和惯性作用下，以每秒数十次的频率在罐内做“抛掷-回落”轨迹运动，对样品形成正向碰撞（球与球之间）和侧向冲击（球与罐壁之间），同时通过滚动碾压和相对滑动实现研磨与剪切。例如：

　　金属纳米材料：通过高能球磨，金属晶粒破碎重组为纳米级粉末，比表面积提升100倍，催化反应活性显著增强；

　　复合材料：碳纤维与铝合金在球磨中均匀分散，界面结合强度提高40%，适用于航空航天结构件。

　　二、核心优势：高效、精准、多场景适用

　　1. 粒度控制与均匀性

　　纳米级粉碎：干磨可至1-10微米，湿磨或加分散剂可至100-500纳米，满足LC-MS/MS、ICP-OES等高灵敏度检测需求；

　　均匀性：研磨罐内样品随磨球运动充分搅拌，多组分混合误差低于2%，例如催化剂活性组分（如铂、钯）在载体表面的分散度达95%以上。

　　2. 低温保护与热敏性处理

　　生物样本：避免DNA、RNA、蛋白质因高温降解，活性保持率达95%以上；

　　易燃易爆物质：低温抑制氧化反应，适用于塑料等挥发性样品的无损研磨。

　　3. 高通量与自动化

　　批量处理：支持96孔板、192孔板同步研磨，单批次处理量提升10-20倍，例如法医检测中单日可处理500份毛发样本；

　　智能控制：液晶触摸屏预设研磨参数（时间、转速、正反转间隔），可存储100组实验程序，支持循环运行模式。

　　4. 安全性与防污染设计

　　密封防尘：研磨室采用双锁紧结构与防退齿轮设计，运行中罐体把手不会松懈，避免交叉污染；

　　低温适配器：支持-196℃液氮冷冻研磨，配备自动中心定位紧固装置，防止罐体脱落。

　　1．品名、型号及用途

　　1.1品名：行星式冷冻球磨仪

　　1.2型号：ZLQM-4GLD

　　1.3用途：用于研磨中低硬度，各种脆性，柔韧，如药物药材类，生物样品类，无机物类，有机物类，矿石类，土壤类等样品

　　2.产品介绍

　　1. 全金属机身，阻尼铰链可限位开门任意角度，电动开关工作仓机盖，压力传感器自动识别仓门状态。

　　2. 采用“多种物质粉碎提取”和“快速研磨功能的细胞粉碎装置”技术，对于将任何来源(包括土壤、植物和动物的组织/器官、细菌、酵母、真菌、孢子、古生物标本等样本进行研磨粉碎。进而可以对的原始DNA、RNA和蛋白质进行提取和纯化，应用领域： 生物, 食物, 农业, 医药品, 化学 / 合成材料,工程/电子, 建筑原料,  玻璃/陶瓷

　　3. 球磨罐在破碎过程中处于全封闭状态，避免交叉污染。

　　3.产品参数

　　4. ★OLED触摸屏，PID微电脑智能控制，预设研磨方案，单组循环或多组间歇式研磨，让研磨更简单；研磨条件自动记录，记录间隔可调，方便溯源分析。

　　5. 在减震技术上采用“双层减震结构”技术，确保在高速研磨工作时，仪器处于一个稳定状态，不会对于外部仪器产生干扰及保证整体环境的安全。

　　6. 固定球磨罐的部分，采用了“简便式球磨罐压紧”技术，降低风险，再配以可靠的压紧技术对于高强度的研磨工作

　　7. 使用数据自动记忆带USB导出接口

　　8. 最大进样尺寸（材料各异）：土壤料≤10mm ,其他料≤3mm。出样粒度：最小可达0.1um

　　9. 研磨频率0—70 Hz/S

　　10. 研磨时间0-9999S

　　11. ★加/减速时间1-60s可调

　　12. ★程序模式30组配方数据存储，可正向逆向运行设定，可以预设研磨配方，根据设置实验参数不断循环

　　13. 球磨载体材质：不锈钢、玛瑙、氧化锆、刚玉、碳化钨、聚氨酯等可选

　　14. 球磨介质材质：不锈钢、玛瑙、氧化锆、刚玉、尼龙、聚四氟乙烯可选

　　15. ★制冷功能：有 20度至 -50 度自由调节

　　16. 传动比（行星盘/球磨罐）：1:1

　　17. 主盘转速：5-400r/min

　　18. 球磨罐转速：10-800r/min

　　19. 载体体积：100ml -500ml 通用,  1000ml

　　20. 最大处理量：4x1000ml

　　21. 最小处理量: 50ml/罐

　　22. 介质直径：3/5/10/15/20mm  介质质量：200-1000g

　　23. 研磨方式：干磨 / 湿磨

　　24. 惰性气体保护处理：是

　　25. 电源    AC220V  50-60Hz